1050nm/1058/1064nm פילטרים פס למנתח ביוכימי
מפרט
תיאור המוצר
הצגת החידוש האחרון שלנו בטכנולוגיית ניתוח ביוכימי - פילטרים של פספרס למנתחים ביוכימיים. פילטרים אלה נועדו לשפר את הביצועים והדיוק של מנתחי ביוכימיה, מה שמבטיח תוצאות מדויקות ואמינות עבור מגוון יישומים.
מסנני מעבר פס אלה מיוצרים מסיליקה התמזגה באיכות גבוהה ונועדו לספק ביצועים אופטיים מצוינים. עם איכות פני השטח של 60-40 ושטוח פני השטח של פחות מלהבדה ב 632.8 ננומטר, פילטרים אלה מספקים בהירות ודיוק יוצאי דופן להעברת מדויק את אורכי הגל הספציפיים הנדרשים לניתוח ביוכימי.
מסנני פס פס למנתחי ביוכימיה כוללים מעל 90% צמצם ברור, מבטיחים העברת אור מקסימאלית ומזעור כל אובדן אות פוטנציאלי. הלהקה המרכזית מוגדרת במדויק על 1050nm/1058/1064nm ± 0.5, ורוחב הפס של חצי הוא 4nm ± 0.5, מה שיכול להעביר באופן סלקטיבי את אורך הגל היעד תוך חסימת אור לא רצוי.
עם העברת פס מעבר של מעל 90% ויכולת חסימה של OD5@400-1100NM, מסננים אלה מספקים יחס אות לרעש מצוין ומספקים נתונים ברורים ואמינים לניתוח ביוכימי. רצועת המעבר (10%-90%) נשמרת למינימום של ≤2nm, ומבטיחה מעבר חלק ומדויק בין פס האזור לאזור החסימה.
מסנן ה- Band Pass עבור מנתחים ביוכימיים מיועד לשילוב קל, עם זווית אירוע מרכזי של 3.7 מעלות וטווח שכיחות מעוצב של 1.5 ° -5.9 °, שניתן להתקין אותו באופן גמיש ויעיל במערכות מנתח ביוכימי. בנוסף, חמירת המגן של <0.3*45 ° מבטיחה פעולה והתקנה בטוחה, ומגנה על המסנן מפני נזק פוטנציאלי.
בין אם משתמשים בניתוח פלואורסצנטי, ספקטרוסקופיה של ראמן או יישומים ביוכימיים אחרים, מסנני פס פס אלה נועדו לעמוד בדרישות הקפדניות של ניתוח ביוכימי, ומעניקים לחוקרים וטכנאים את הביטחון והדיוק שהם צריכים לעבוד.
לסיכום, מסנני הלהקה של מנתח הביוכימיה שלנו הם אידיאליים לשיפור ביצועי מנתח ביוכימיה, עם תכונות אופטיות מעולות, בקרת אורך גל מדויקת ויכולות חסימה אמינה. עם העיצוב המתקדם שלהם ואיכותם המעולה, פילטרים אלה יעלו את הרף לניתוח ביוכימי, ויאפשרו לחוקרים וטכנאים להשיג תוצאות פורצות דרך בביטחון ובדיוק.
מסנן פס 1050 ננומטר
מסנן פס 1058 ננומטר
מסנן פס 1064 ננומטר
חוֹמֶר:UV התמזג סיליקה
איכות פני השטח:60-40
שטוח פני השטח: <1 Lambda@632.8nm
צמצם ברור:> 90%
להקת מרכז: 1050nm/1058/1064nm ± 0.5
FWHM:4nm ± 0.5
העברת מעבר פס:＞ 90%;
חוסם:OD5@400-1100NM;
זווית שכיחות מרכזית:3.7 °, טווח אירועי עיצוב: 1.5 ° -5.9 °
להקת מעבר (10%-90%):≤2nm
Chamfer מגן:<0.3*45 °
